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OLED设备成都齐兴

有机光电子器件超高真空制备系统

一、设备用途和功能特点

1、该设备是一台超高真空镀膜设备,具有样品前处理;有机材料热蒸发镀膜等功能

2、样品等离子处理

3、适用于镀制各种单层膜、多层膜、复合膜,可镀有机膜

4、可用于多种薄膜材料的物理化学性能研究实验、集成电路半导体器件的原理研究实验、有机功能薄膜研究及太阳能电池研究实验等

5、样品可以实现连续完成等离子处理,单层膜、多层膜或复合膜镀有机膜功能

二、主要性能指标

1、极限真空度:≤1×10-5 Pa(充干燥氮气、烘烤)

2、工作真空度:≤5×10-5 Pa

3、抽气速度:真空室在常温下,从1大气压至 1× 10-4 Pa 时间≤ 25 分钟

4、漏气率:关闭电12小时后,真空室内的真空度≤8 Pa

5、镀膜方式:热蒸发镀


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部分:磁力送样结构

磁力送样,可以将样品托从进样室传到有机材料蒸发室,金属材料蒸发室,手套箱

 第二部分:进样室

1、形式:圆筒卧式前开门,并装有玻璃观察窗, 具有一个机械手臂用于样片的接送

2、具有1个磁力推送杆接口,分别用于与有机蒸镀腔,无机蒸镀腔,以及手套箱连接

3、材料:304

4、极限真空可达8×10-4Pa 

5、抽气速度:真空室在常温下,从1大气压至0.1 Pa 时间≤ 5分钟

6、真空测量:数显真空计,ZJ-52型电阻规

7、基片等离子清洗(脉冲偏压电源提供离子电源)

   恒压电源,*大为1000伏特;频率可调(30~60K);占空比可调(10~90%)

8、流量控制1个 进气孔,测试监控,数字显示

 第三部分:有机材料蒸发室

(一)有机材料蒸发室室体

极限真空可达1×10-5 Pa;工作真空度:≤5×10-5 Pa; 停机12小时后真空度≤8Pa,

1、型式:立式,单层,立式前开门Φ300,具有一个机械手臂用于样片的接送

2、参考内径尺寸:Φ400×450mm

3、材料:不锈钢304

4、基片位置:真空室上面室顶部,(自转动)

5、基片加热,温度可调节范围300°,温度精度为0.5°

6、蒸发源:真空室下面室底部6个蒸发源

7、蒸发源挡板,容易拆卸和重新组装(进口旋转气缸、磁流体旋转)

8、真空室衬板

9、真空室架

10、观察窗

11、照明灯

(二)真空系统

直联泵+分子泵+真空阀门+真空管道

(三)真空测量:

(四)热蒸发镀膜系统

  温度控制,可控硅

(五)样品自转系统:在真空室顶部,自转结构;

(六)室体温控:室体烘烤

(七)测膜仪:

(八)掩膜版转移架, 放置3个掩膜版,转移架的高度可调

第四部分:无机材料蒸发室

(一)无机材料蒸发室室体

极限真空度:≤1×10-5 Pa;工作真空度:≤5×10-5 Pa;停机12小时后真空度≤8 Pa

1、型式:立式,单层,立式前开门Φ300,具有一个机械手臂用于样片的接送

2、参考内径尺寸:Φ400×450mm 

3、材料:不锈钢304

4、基片位置:真空室上面室顶部,(自转动)

5、蒸发源:真空室下面室底部6个蒸发源

6、蒸发源挡板:进口旋转气缸、磁流体旋转

7、真空室衬板

8、真空室架

9、观察窗

10、照明灯

(二)真空系统

直联泵+分子泵+真空阀门+真空管道

(三)真空测量

(四)热蒸发镀膜系统

(五)样品自转系统

(六)测膜仪:包含3套膜厚探头(美国INFICON)

(七)电源:220V(AC)50Hz  , *大功率:3000W保证金属材料,Al,Ag,Au,Cu,Mg,Ca,以及无机材料MoO3,LiF,Cs2CO3等的正常蒸镀,配套所有材料用的批量的蒸镀舟,保证舟与设备的耦合。

第五部分:真空手套箱系统

一、手套箱功能特点

1、手套箱结构:一个与真空腔体以及磁传送杆相通的进样窗口,两个手动进样窗口

2、气体介质:N2、Ar、He气体

3、净化系统采用可再生/还原的净化材料

4、控制系统实现功能:手/自动控制系统气压          

5、手/自动控制系统的净化状态

6、自动控制气体净化系统的还原过程

7、自动提示、报警功能;

8、系统控制参数设置;系统参数记录;系统执行机构工况检测。

9、电源:220V(AC),50HZ, *大功率:3000W

10、性能指标:标准情况下箱体内水含量(注:标准情况为一个大气压,20度恒温)     ≤1ppm;标准情况下箱体内氧含量(注:标准情况为一个大气压,20度恒温)      ≤1ppm;过渡舱可承受真空度值      >100pa;泄漏率     ≤ 0.05vol%/h


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